超聲波清洗的用途

超聲波清洗的用途

一：結(jié)構(gòu)復雜制件的清洗及后處理用途

     結(jié)構(gòu)比較復雜，具有狹小的縫隙、孔洞的制件的清洗以及處理多用超聲波法進行。

二：滲透到制件表層的各種污染物清洗用途

     半導體硅膜片，精密光學儀器的透鏡的表面常因切片、研磨等加工而造成表層被磨屑、油污等污染，有的已滲入表層微觀組織內(nèi)，用其他工藝清洗很難奏效，但改用***的超聲波清洗，就可化難為易。

三：去銹蝕清洗用途

     將超聲波清洗用于去銹蝕，其優(yōu)點是可顯著提高浸蝕清洗速度，是氧化皮和浸蝕殘渣快速離開制件表面，特別適用于氧化皮較厚且比較致密、或外形結(jié)構(gòu)比較復雜的制件浸洗。超聲場內(nèi)浸蝕清洗的過程，是將待清洗制件及適用的浸洗介質(zhì)（溶液）一起置于超聲場內(nèi)，在化學浸蝕的基礎上，再施加一個***的超聲波振蕩作用，使制件表面的的銹蝕物在浸蝕疏松的同時，將已被疏松即將脫落的銹蝕物及浸蝕殘渣及時剝離掉，這時浸蝕液能及時與內(nèi)層銹蝕物接觸而進行反應。另外，超聲波還有一個高速攪拌浸蝕介質(zhì)的作用。